Là M Sạ Ch Và Bả O Trì; Bộ Lọ C; Thân Máy - Sharp IG-DC2E Operation Manual

Plasmacluster ion generator
Table of Contents

Advertisement

Available languages
  • EN

Available languages

  • ENGLISH, page 1
LÀ M SẠ CH VÀ BẢ O TRÌ
Bộ lọ c phả i đượ c là m sạ ch thườ ng xuyên để duy trì mậ t độ ion.
Độ bẩ n củ a bộ lọ c tù y thuộ c và o môi trườ ng sử dụ ng, vì vậ y hã y là m sạ ch
bộ lọ c thườ ng xuyên khi cầ n.
Bằ ng cá ch là m sạ ch thườ ng xuyên, có thể giả i phó ng Plasmacluster ion
mộ t cá ch hiệ u quả .
Loạ i bỏ nhẹ nhà ng
bụ i khỏ i bộ lọ c ở mặ t
sau bằ ng cá ch sử
dụ ng má y hú t bụ i.
• Không é p mạ nh má y hú t bụ i và o bộ lọ c, nế u không bộ lọ c có thể bị hỏ ng.
• Nế u sử dụ ng chấ t tẩ y rử a nhà bế p tổ ng hợ p, hã y xả sạ ch thậ t kỹ để loạ i bỏ tấ t cả
dấ u vế t củ a chấ t tẩ y rử a đó .
Đồ ng thờ i, hã y chắ c chắ n phơi khô bộ lọ c trong bó ng râm.
• Phơi khô sả n phẩ m nà y trong khu vự c bó ng râm sao cho không cò n nhỏ nướ c và o
khoả ng trố ng giữ a vỏ bộ lọ c và bộ lọ c.
THÂN MÁY
Lau chù i bằ ng giẻ khô, mề m.
<Đối với các vết bám khó lau chùi>
IG-DC2E.VN.indd 10
IG-DC2E.VN.indd 10
BỘ LỌ C
Thườ ng xuyên khi cầ n
<Đố i Vớ i Vế t Bẩ n Cứ ng Đầ u>
• Loạ i bỏ và xả sạ ch trong nướ c. (Sử dụ ng miế ng chù i rử a
mề m nế u vế t bẩ n khó bong ra.)
Cẩ n thậ n để chấ t liệ u đệ m không bong ra.
Bộ lọ c
Hà ng thá ng hoặ c thườ ng xuyên hơn nế u cầ n
Xả sạ ch
Lau bằ ng giẻ khô.
(Phơi khô trong bó ng râm.)
Hãy dùng nước và chất tẩy nhẹ và sau đó,
lau chùi bằng giẻ ướt. Chắc chắn lau khô
thân máy.
Every
VN-8
Gắ n lạ i và o
2012/04/06 17:18:44
2012/04/06 17:18:44

Advertisement

Table of Contents
loading

This manual is also suitable for:

Ig-dc2b

Table of Contents